仪器型号：LN-1084SC

生产商：沈阳立宁真空技术研究所

应用范围：

一、本设备主要用于蒸镀各种金属及有机膜层，内设有：4套挂丝式金属源（可以蒸镀Au、Ag、Al等材料）, 8套有机源 。蒸发源之间没有污染；进口膜厚仪及探头：4通道膜厚仪，4个通道可同时检测。进口原装成套膜厚探头4套、与膜厚仪连接，可实现膜厚控制与掺杂蒸发；PLC自动控制，带有逻辑控制线路，自动识别、防止操作过程中的误操作。

二、技术参数：

1、真空室本底极限真空度：6×10-5Pa，

2、膜厚不均匀度≤3%，抽速系统从大气开始抽气至5×10-4Pa≤40分钟，

3、系统真空检漏漏率：≤3.0x10-10Pa.m3/S；

4、基片台转速：1～30转/分钟，连续可调；

5、蒸发源加热温度范围及温控精度：

三、有机源：加热温度范围为：室温～800℃，精度为±1℃。可温度控制或电流控制。

四、金属源：电流控制，可加电流范围0～200A。精度为±0.2A.