仪器型号：URE-2000A

生产商：中科院光电所

应用范围：
    本设备采用CCD图像底面对准技术，单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩膜一样片精密对准工件台结构设计，掩膜一样片对准过程直观，套刻对准速度快、精度高。掩膜板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式，操作方便。该设备可应用于紫外光对正胶或者负胶进行照射，通过显影可对样品进行精细的图形化。
主要技术指标：
曝光面积：150mm×150mm
分辨力：1μm（胶厚1.5 μm的正胶）
对准精度：±3μm（双面）
最大胶厚：500μm（SU8胶）
掩模尺寸:3inch、4 inch
样片尺寸：直径小于等于4inch
照明均匀性：±3.5%Ф100mm) ±5.5%(Ф150mm)
汞灯功率：1000W（直流）
掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm; Y: ±5mm; θ: ±6°